広瀬 洋一 | 東海大学 電子情報学部

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概要

• 同名の論文著者
• 東海大学 電子情報学部の論文著者

関連著者

• 広瀬 洋一

  東海大学電子情報学部エレクトロニクス学科

• 広瀬 洋一

  東海大学 電子情報学部

• 広瀬 洋一

  東海大 電子情報

• 広瀬 洋一

  日本工業大学

• 山中 博

  トーメイダイヤ(株)

• 石川 豊

  日本工業大学 工学部

• 阿部 匡朗

  東海大学 工学部

• 廣澤 さくら

  東海大学 工学部

• 石川 豊

  日本工業大学

• 大島 龍司

  トーメイダイヤ(株)

• 飯塚 完司

  日本工業大学

• 平林 敬二

  キャノン(株) 生産研究所

• 三橋 和広

  日本工業大学 工学部

• 三上 敏秀

  日本工業大学 工学部

• 梶ヶ谷 洋史

  東海大学 工学部

• 大島 龍司

  日本工業大学

• 鈴木 敏正

  日本工業大学

• 吉見 英人

  日本工業大学 工学部

• 大島 龍司

  トーメイダイヤ(株)小山工場

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著作論文

• 熱フィラメントCVD法による平板状ダイヤモンドの合成
• ダイヤモンドを陰極とした直流プラズマCVD法におけるダイヤモンド薄膜の高速合成の試み
• 平板状ダイヤモンド結晶における生成条件の検討
• ダイヤモンド陰極を低温にした直流放電プラズマCVD法によるダイモンド薄膜の合成
• 常圧直流プラズマCVD法を用いたダイヤモンド薄膜の合成
• 陰極にダイヤモンドを用いた直流プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜の合成
• 偏光ラマン分光分析法による平板状ダイヤモンドの評価
• ダイヤモンド薄膜の合成・評価およびこれからの課題
• 熱フィラメントCVD法により合成されたダイヤモンド薄膜への紫外線照射による酸化の効果

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