青木 彪 | 東京工芸大学工学部電子工学科

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概要

• 同名の論文著者
• 東京工芸大学工学部電子工学科の論文著者

関連著者

• 青木 彪

  東京工芸大学工学部電子工学科

• 青木 彪

  東京工芸大学工学部電子情報工学科

• 加藤 静一

  東北リコー株式会社

• 西川 泰央

  東京工芸大学工学部電子工学科

• 加藤 静一

  東京工芸大学工学部電子工学科

• 北村 光芳

  東京工芸大学情報処理教育研究センター

• 北村 光芳

  東京工芸大学工学部電子工学科:(現)シャープ(株)

• 鈴木 英佐

  東京工芸大学工学部

• 芦〓 馨介

  東京工芸大学大学院工学研究科

• 盛 偉秋

  東京工芸大学工学部大学院電子工学科

• 中野 幹夫

  東京工芸大学工学部電子工学科

• 小林 良嗣

  株式会社東芝

• 北村 光芳

  東京工芸大学・工学部・電子工学科

• 安田 佳之

  (現)富士ゼロックス株式会社

• 北村 光芳

  (現)シャープ株式会社

• 宮島 雅彦

  東京工芸大学工学部電子工学科

• 芳野 孝志

  東京工芸大学工学部電子工学科

• 渡部 明美

  東京工芸大学工学部電子工学科

• 武 邦明

  東京工芸大学工学部電子工学科

• 若谷 茂樹

  (現)ソニー株式会社

• 北村 光芳

  東京工芸大学

• 鈴木 英佐

  東京工芸大学工学部電子工学科

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著作論文

• 高性能水素離脱測定装置
• 低光子エネルギー及び低光電流における半導体薄膜のCPM特性測定装置
• Electrostatic Analyzerによる反応性プラズマの診断
• マグネトロン連続発振用出力電力安定化装置の試作
• マイクロ波グロー放電CVDによるa-Si:H薄膜の生成
• ECRプラズマによるa-Si : H膜の高速成膜用反応装置と生成膜の赤外吸収スペクトラムの簡易定量分析法
• 非晶質半導体におけるフォトルミネッセンスの起源
• 電子工学科設置10周年記念論文
• 金属周期構造上の圧電すべり表面波の伝搬特性

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