中村 隆弘 | NECシステムデバイス研究所

スポンサーリンク

概要

• 中村 隆宏の詳細を見る
• 同名の論文著者
• NECシステムデバイス研究所の論文著者

NECシステムデバイス研究所 | 論文

• 密度変調Low-k膜を用いた32nm世代対応Cu配線技術(配線・実装技術と関連材料技術)
• 極薄ポアシールを用いた65nm-node対応多層配線(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
• 層間絶縁膜の空孔構造制御によるULSIデバイスの低消費電力化
• 低誘電率有機膜を用いたCuダマシン多層配線プロセス設計とその実証
• EB直描を用いた先端デバイスの試作

もっと見る

スポンサーリンク