Ikawa Eiji | Microelectronics Research Labs, NEC Corp.

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概要

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• Microelectronics Research Labs, NEC Corp.の論文著者

Microelectronics Research Labs, NEC Corp. | 論文

• Influence of Halogen plasma Atmosphere on SiO_2 Etching Characteristics : Etching
• Influence of Halogen Plasma Atmosphere on SiO_2 Etching Characteristics
• Study of Submicron SrTiO_3 Patterning
• Low-Temperature Etching of 0.2 μm Al Patterns Using a Sio_2 Mask

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