Kurata Hiroyuki | Department of Biochemical Engineering and Science Kyushu Institute of Technology
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概要
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Department of Biochemical Engineering and Science Kyushu Institute of Technology | 論文
- MOCVD法によるPr酸化膜の作製およびその電気的特性評価(ゲート絶縁膜形成およびメモリ技術,ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- Pr(EtCp)_3を用いた原子層堆積法によるPr酸化膜の形成(レギュラーセッション,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- Conductive Atomic Force Microscopy Analysis for Local Electrical Characteristics in Stressed SiO_2 Gate Films
- Pr-Oxide-Based Dielectric Films on Ge Substrates
- Conductance Oscillations in Hopping Conduction Systems Fabricated by Focused Ion Beam Implantation ( Quantum Dot Structures)