谷口 正明 | ルネサスエレクトロニクス株式会社
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概要
ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 論文
- 「ガラパゴス化」と国際規格
- 先端デバイスの故障メカニズムと寿命分布(「信頼性・保全性・安全性の事例:材料・部品・デバイス編」〜信頼性ハンドブック出版から10年を経て〜)
- ランダムテレグラフノイズの包括的理解に向けた新解析手法の提案とその応用(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- CuAl合金配線を適用した32nmノード対応高信頼性配線技術の開発(配線・実装技術と関連材料技術)
- 微細銅配線において車載信頼性を実現するための新抵抗率評価手法(配線・実装技術と関連材料技術)