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丸山 健治 | 東京応化工業株式会社
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東京応化工業株式会社 | 論文
Sr_2Bi_2TaO_9薄膜の成膜におけるゾルーゲル法の利点
白金電極の配向性がゾル・ゲル法により作製したSrBi_2Ta_2O_9薄膜特性に与える影響
ゾルゲル法によるPZT薄膜の構造および強誘電体特性に及ぼす仮焼成温度の効果
Sr_2Bi_2TaO_9薄膜の成膜におけるゾルーゲル法の利点
白金電極の配向性がゾル・ゲル法により作製したSrBi_2Ta_2O_9薄膜特性に与える影響
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