鎌田 仁 | 東大工学部工業分析化学

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概要

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論文 | ランダム

• Effect of Rapid Thermal Process on Oxygen Precipitation in Heavily Boron-Doped Czochralski Silicon Wafer
• Bipolar Structure in Thermally Treated Czochralski Silicon Wafer
• シリコン(Si)表面に形成されたDenuded Zone境界の格子定数の変化
• Annealing Behavior of Light Scattering Tomography Defect in the Denuded Zone of Si Wafers
• シリコン結晶中の酸素析出物の形態変化(バルク成長分科会特集 : シリコン結晶の最近の話題から)

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