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長谷川 英機 | 北海道大学量子界面エレクトロニクス研究センター
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北海道大学量子界面エレクトロニクス研究センター | 論文
シリコン超薄膜を用いたInGaAsの表面不活性化とその応用
Si界面制御層を用いた化合物半導体量子井戸構造の表面不活性化
新しい界面制御技術による化合物半導体の表面パッシベーションとその量子構造への応用
ラテラルnipi構造の作製とその静電気力顕微鏡による評価
静電気力顕微鏡(EFM)によるドーピング超格子構造の表面ポテンシャル観察
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