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宮澤 信太郎 | NTT LSI研究所
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NTT LSI研究所 | 論文
CBE成長および熱処理GaAs表面のSTM観察
CBr_4を用いた炭素ドープInGaAs結晶の成長 : 半導体液相成長II
MOVPE法による界面平坦性、急峻性の制御とそれらの光学的・電気的特性への影響
MOCVD成長GaAs、AlAsの表面ステップ形状
GaAs,AlGaAs成長時の表面,界面のナノオーダ凹凸の制御
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