塩川 善郎 | 日電アネルバ株式会社

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概要

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日電アネルバ株式会社 | 論文

• 新核形成法によるバリヤ層のないCVD-Al埋込配線形成
• CVD-Al薄膜の成長過程とその下地依存性 : 堆積膜表面からの反射光強度のモニタ
• ヘリコンプラズマバイアスCVDにおける層間絶縁膜の埋設特性評価
• 高密度プラズマを用いた化学蒸着(CVD)法によるチタン系薄膜の作製と評価
• サマリー・アブストラクト

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