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兵庫県立大学工学研究科イオン光学研究室 | 論文
- Deposition of thin films with gas cluster ion beams
- ガスクラスターイオンビームを用いたシリコンウェーハの高精度加工
- Cluster size dependence of surface morphology after gas cluster ion bombardments
- Gas cluster ion beam equipment and applications for surface processing
- 学士論文 窒素ガスクラスタービームのエネルギー特性とクラスターサイズ効果に関する研究
- 原子・分子・クラスターイオンビーム技術の進展
- Ion implantation: science and technology (chapter 14) Development of cluster ion beam technology
- クラスターイオンビーム・ナノ加工技術とその応用
- Size effects of gas cluster ions on beam transport, amorphous layer formation and sputtering
- Cluster size dependence of SiO2 thin film formation by O2 gas cluster ion beams
- Cluster size dependence of etching by reactive gas cluster ion beams
- Non-contact wafer fabrication process using gas cluster ion beams
- 多原子イオンを含有する電解質溶液からの二次イオン質量分析(SIMS)用イオンビームの生成
- ガスクラスターイオンビームを用いた高精度シリコンウェーハの製造技術
- Precise fabrication of silicon wafers using gas cluster ion beams
- Dependence of recovery of Si surface damaged by GCIB irradiation on annealing temperature
- Detection of protein ions by gas-cluster SIMS
- Preferential sputtering of DNA molecules on a graphite surface by Ar cluster ion beam
- Kiloelectronvolt molecular impacts on soft marerials: from nanocrasers to 3D chemical analysis
- Structures and photocatalytic properties of crystalline titanium oxide-dispersed nanoporous glass-ceramics