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キヤノンアネルバ | 論文
- Investigation of EBAS annealing for Al-implanted 4H-SiC samples
- 製品紹介 L-250G-IAラボ用分析装置IA-Lab(アイエーラボ)
- 大型基板用スパッタ装置におけるマルチマグネットカソード(MMC)の特徴
- Analysis of unstable species in cyclo-C4F8 plasma by ion attachment mass spectrometry
- 論文紹介 Growth of high quality Ge epitaxial layer on Si(100) substrate using ultra thin Si0.5Ge0.5 buffer
- 構造解析ツールを活用した大型真空チャンバーの開発
- C-9001 VHFプラズマCVD装置におけるSiON膜の膜質制御
- Enhanced performance of gate-first p-channel metal-insulator-semiconductor field-effect transistors with polycrystalline silicon/TiN/HfSiON stacks fabricated by physical vapor deposition based in situ method
- Spin-torque diode effect in magnetic tunnel junctions
- スパッタ成膜分布に関連したシミュレーション
- パネルデバイスとキヤノンアネルバの成膜装置
- 論文紹介 Two-Dimensional Distributions of Ti and Ti〔+〕Densities in High-Pressure Magnetron Sputtering Discharges
- キヤノンアネルバ株式会社における超高真空技術
- 低損傷スパッタ成膜装置を用いた真空一貫メタル電極/高誘電率絶縁膜ゲートスタック作製技術の提案
- 金属スピントロニクス素子の新しい展開--スピントルクダイオード
- NiCr(NiFeCr)/Pd二層シード層を使用した垂直磁気記録媒体の特性向上及びRu膜の薄膜化
- 超高/極高真空装置のための真空材料の新展開--超低ガス放出チタン材料製真空装置の開発
- MgO障壁層を用いたトンネル磁気抵抗素子の開発
- CoFeB/MgO/CoFeBトンネル接合を用いた超低抵抗TMR素子の開発