C-9001 VHFプラズマCVD装置におけるSiON膜の膜質制御

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• キヤノンアネルバの論文

キヤノンアネルバ | 論文

• CoFeB/MgO/CoFeBトンネル接合を用いた超低抵抗TMR素子の開発
• MgO障壁層を用いたトンネル磁気抵抗素子の開発
• 超高/極高真空装置のための真空材料の新展開--超低ガス放出チタン材料製真空装置の開発
• NiCr(NiFeCr)/Pd二層シード層を使用した垂直磁気記録媒体の特性向上及びRu膜の薄膜化
• 金属スピントロニクス素子の新しい展開--スピントルクダイオード

もっと見る

スポンサーリンク