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アネルバ | 論文
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- Cat-CVD用Wワイヤのベイキングによる純化
- PDPと寿命
- プレーナー型VHF(60MHz)マグネトロンを用いたイオン化スパッタによるCuシード層形成技術の開発
- Point-Cusp-Magnetic Field(PCM)プラズマ源を用いたシリコン高速エッチング技術
- 化学気相成長法を用いたチップ貫通電極用銅配線技術の開発
- Point-Cusp-Magnetic Field(PCM)プラズマ源を用いたシリコン高速エッチング技術 (PCM特集)
- 化学気相成長法を用いたチップ貫通電極用銅配線技術の開発
- BDS装置におけるプラズマ密度とスパッタ金属原子のイオン化率の測定
- BDSによるCu配線向けバリア膜の開発
- SiGe-Si UHV-CVD技術
- SiO2 Etching using high density plasma sources
- Magnetically Enhanced Dual Frequency Capacitively Coupled Plasma Source for Large-area Wafer Processing
- I-4100酸化膜ドライエッチング装置のPFC排ガス削減
- 磁性材料ドライエッチング装置の開発
- CO/NH3による金属磁性材料の微細加工
- Cat-CVD法実用化のための要素技術開発
- ディープサブミクロン世代のCMOS技術
- 60MHzの高周波を用いたマグネトロンスパッタにおけるプラズマ及び成膜特性
- Novel chemical vapor deposition of spherically oxidized nanocrystaline silicon(nc-Si)quantum dot multilayer