Cat-CVD法実用化のための要素技術開発

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• アネルバの論文

著者

• 柄澤 稔

  北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科

• 石橋 啓次

  アネルバ株式会社次世代技術研究所

• 田中 雅彦

  アネルバ株式会社次世代技術研究所

• 石橋 啓次

  キヤノンアネルバ株式会社 エレクトロンデバイス装置事業部

関連論文

• 触媒化学気相成長法による1mサイズ基板上への均一堆積技術開発
• 定量的解析手法によるITOスパッタ時の酸素添加メカニズムの研究
• Cat-CVD法実用化のための要素技術開発
• 企業から見たスパッタリング技術の進展と今後への期待
• 多元同時スパッタリング法によるY_1Ba_2Cu_3O_y薄膜の作製
• 高真空平板マグネトロン放電の開発
• Cat-CVD用Wワイヤのベイキングによる純化

スポンサーリンク