MOCVD法を用いたTi-29%Nb-13%Ta-4.6%Zr合金へのハイドロキシアパタイト膜合成

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概要

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著者

• 新家 光雄

  東北大・金研

• 仲井 正昭

  東北大・金研

• 堤 晴美

  東北大学金属材料研究所

• 新家 光雄

  東北大・金属・生体材料

• 仲井 正昭

  東北大・金属・生体材料

• 新家 光雄

  豊橋技科大

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• フッ化物溶液中でのTi-Nb-Ta-Zr合金の電気化学的腐食挙動
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