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ソース・ドレイン領域に極薄SiNx膜を形成したTFTの温度特性
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概要
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兵庫県立大学の論文
著者
小林 孝裕
兵庫県立大学大学院工学研究科
栃尾 貴之
関西大学大学院理工学研究科
大倉 健作
広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
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