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特集 ナノ観察・ナノ操作による新機能開拓
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論文 | ランダム
重イオン注入を用いたSuper Steep Retrogradeチャネル形成によるMOSFETしきい値揺らぎの低減
傾角注入によるSbエクステンション-ゲート間のオーバーラップ制御
Extension形成プロセスのIn Haloプロファイルへの影響
LOCOS端に誘起される欠陥のウエハ種依存性評価
セルフリミット機構を有するシリコン窒化膜の原子層デポジション
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