オプトメカトロニクス時代の超精密研磨技術-30-軟X線光学素子(直入系)
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 重力波検出干渉計用大口径ミラーの評価
- レーザージャイロの開発を通して学んだ事
- 非球面研磨加工技術(EUV基盤技術とその応用の現状)
- 光学薄膜の低欠陥・超平滑形成技術
- 多層膜コートグレーティングの最前線
- 超低損失ミラーの現状
- 損失1.5ppmの超高品質ミラーの開発と計測
- 軟X線光学用多層膜(アトミックルールプロセス)
- 軟X線用多層膜ミラ-技術 (小特集:X線光学技術とその応用)
- X線多層膜の製作法と評価法 (特集 最近のX線技術)
- 超高品位ミラ-用多層膜技術 (特集「薄膜技術」)
- オプトメカトロニクス時代の超精密研磨技術-30-軟X線光学素子(直入系)
- オプトメカトロニクス時代の超精密研磨技術-24-レ-ザジャイロ用極低散乱ミラ-
- 軟X線光学用酸化物/金属多層膜の研究 : 膜組織のOrdering Factorによる評価と粗さの関係