軟X線光学用酸化物/金属多層膜の研究 : 膜組織のOrdering Factorによる評価と粗さの関係
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概要
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The relation between the surface roughness and the ordering factor of amorphous SiO<SUB>2</SUB> and Ni films fabricated by dual ion beam sputtering was investigated as a function of the assisting Ar<SUP>+</SUP> ion energy. The ordering factor was defined as a quantity which shows the degree of disorder from the rmsvalue of the correlation function of the RHEED pattern from those films. <BR>The surface roughness and the ordering factor of amorphous SiO<SUB>2</SUB> showed minimum values for assisting Ar+ ion energy, and those values were similar. <BR>For amorphous Ni films, the ordering factor also showed the minimum, but the aforementioned similar relation was not observed, because it traced the surface roughness of the substrate in the energy region investigated.
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