サブ100nm時代のデバイスに向けた縦形成膜装置--縦形SiGeエピタキシアル成長装置 (特集 最先端半導体デバイスの生産を実現するベストソリューション)

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概要

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著者

• 井ノ口 泰啓

  日立国際電気

• 国井 泰夫

  日立国際電気

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