井ノ口 泰啓 | 日立国際電気

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概要

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関連著者

• 井ノ口 泰啓

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• 王 杰

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• 森谷 敦

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• 国井 泰夫

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• 山本 克彦

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• 橋場 祥晶

  日立国際電気

著作論文

• Cl系-Si系混合ガスを用いたエピ前低温表面処理法の検討
• 縦型バッチEpi成膜技術
• サブ100nm時代のデバイスに向けた縦形成膜装置--縦形SiGeエピタキシアル成長装置 (特集 最先端半導体デバイスの生産を実現するベストソリューション)
• 技術論文 縦型Epi-SiGe装置の開発

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