化学気相析出によるTiN膜の成長速度
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- Ti-Ni形状記憶合金の変態に伴う熱的挙動
- 東北大学工学部金属工学科金属化学工学講座の研究紹介
- 直流電磁力場における非導電性2粒子に作用する電磁泳動力
- 直流電磁力場のおける非導電性2粒子間相互作用に関する研究
- 直流電磁力場における非導電性2粒子間相互作用
- 廃ガラスと溶融アルミニウムスクラップとの反応に関する基礎的研究
- Al廃材の利材化を目的とした石英ガラスと溶融Alとの置換反応に及ぼす不純物元素の影響
- 交流電磁場処理による炭酸カルシウム粒子のゼータ電位変化と配管のスケール防止への適用
- 交流電磁場処理による配管のスケール防止効果
- 1F17 熱 CVD プロセスにおける磁場印加の影響
- 強磁場印加した熱CVD法による鉄膜の作製 (強磁場下の結晶成長及び強磁場の化学・生物学効果の研究)
- 金属のマイクロ波加熱の基礎と応用
- マイクロ波による金属加熱と応用
- マイクロ波と物質の相互作用及びマイクロ波加熱の応用
- マイクロ波処理によるCr含有製鋼スラグからのCr酸化物選択分離
- 交流磁場間欠印加による部分強化型Al基SiC粒子分散複合材料の作製
- 企画にあたって
- 2.45GHzシングルモードを用いた電場・磁場分離マイクロ波加熱
- マイクロ波加熱炭素還元法によるNi粒子の作製
- 1F18 強磁場 CVD 法による下でのカーボンマイクロコイル・ナノコイルの気相合成
- 直流電磁力場における非導電性2粒子周囲の流動と粒子間相互作用
- 直流電磁力場における非導電性2粒子に作用する泳動力と粒子周囲の流動
- SiO_2と溶融Alの反応によるAl/Al_2O_3複合体層の成長速度と組織
- SiO_2と溶融Alの反応により作製したAl/Al_2O_3複合体の機械的性質と硬度傾斜化
- 化学気相析出によるTiN膜の成長速度
- 管状反応器内におけるTiN膜の化学気相析出速度
- 管状反応器内に化学気相析出したTiN膜の微細組織
- 強磁場下でのカーボンマイクロコイル・ナノコイルの合成と物性 : カーボンナノ合成
- 鉄成膜のCVDプロセスに及ぼす磁場印加効果 (強磁場下の結晶成長及び強磁場の化学・生物学効果の研究)
- マイクロ波加熱による材料・環境への応用,最近の話題と研究 (特集 マイクロ波効果と分離技術)
- 軽金属へのマイクロ波加熱の高度利用技術