高速スパッタ型ECRプラズマ成膜技術の汎用化--導電性膜の高速形成技術

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 応用物理学会の論文

著者

• 松岡 茂登

  Ntt光エレクトロニクス研究所

関連論文

• 25a-D-4 波動モードとプラズマ生成
• 3p-R-2 電子サイクロトロン波を用いた高密度プラズマの生成 : 斜め入射
• 電界ミラ-型高速ECRスパッタ成膜技術
• 高速スパッタ型ECRプラズマ成膜技術の汎用化--導電性膜の高速形成技術
• スパッタ型ECRマイクロ波プラズマの特徴と薄膜形成への応用
• ErドープSi膜のIBE成長と発光特性

スポンサーリンク