高出力プラズマX線源 (半導体プロセスのための光・プラズマ装置)

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 応用物理学会の論文

著者

• 吉原 秀雄

  Nttアドバンステクノロジ(株)

• 斉藤 保直

  Ntt Lsi 研究所

• 岡田 育夫

  Ntt Lsi研究所

関連論文

• 高密度・大電流プラズマからの放射とその計測研究会プログラム
• ECRプラズマCVDを用いたX線マスク用SiC膜の形成
• X線反射膜形成装置と反射膜特性
• プラズマ X 線源を用いた X 線ステッパー
• 7. ガス注入プラズマ X 線源における X 線放射特性
• 高出力プラズマX線源 (半導体プロセスのための光・プラズマ装置)
• Enhanced ARE法によるMnBi膜の形成
• 6. ガス注入型プラズマ X 線源における露光特性
• Enhanced ARE法によるMnBi膜の形成

スポンサーリンク