7. ガス注入プラズマ X 線源における X 線放射特性
スポンサーリンク
概要
著者
-
吉原 秀雄
Nttアドバンステクノロジ(株)
-
斉藤 保直
Ntt Lsi 研究所
-
板橋 聖一
Ntt Lsi研究所
-
岡田 育夫
Ntt Lsi研究所
-
岡田 育夫
NTT 電気通信研究所厚木研究所
-
板橋 聖一
NTT 電気通信研究所厚木研究所
-
斉藤 保直
NTT 電気通信研究所厚木研究所
-
吉原 秀雄
NTT 電気通信研究所厚木研究所
関連論文
- 高密度・大電流プラズマからの放射とその計測研究会プログラム
- ECRプラズマCVDを用いたX線マスク用SiC膜の形成
- X線反射膜形成装置と反射膜特性
- プラズマ X 線源を用いた X 線ステッパー
- 7. ガス注入プラズマ X 線源における X 線放射特性
- 高出力プラズマX線源 (半導体プロセスのための光・プラズマ装置)
- Enhanced ARE法によるMnBi膜の形成
- 6. ガス注入型プラズマ X 線源における露光特性
- Enhanced ARE法によるMnBi膜の形成