2F17 Ce-TZP マトリックス中における La-M 型ヘキサフェライトの in-situ 生成
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 日本セラミックス協会の論文
- 1998-10-01
著者
関連論文
- 3L07 LaNiO_3 電極上に作製した SrTiO_3 系積層膜の非線形 I-V 特性
- 3J06 化学溶液法を用いた Sr_2FeMoO_6 薄膜の CMR 特性
- 2L20 CSD によるチタン酸ビスマス薄膜の特性に及ぼす希土類元素添加効果
- 1B24 カリウム置換ニオブ酸ストロンチウムバリウム薄膜の合成とその電気的特性
- 2A1-N-105 無鉛圧電セラミックスを用いたマイクロマニピュレーション用接触センサの開発(触覚と力覚4,生活を支援するロボメカ技術のメガインテグレーション)
- 2C07 NOx 浄化用ヘキサアルミノガレート/固体電解質積層セラミックシステムの合成と評価
- 1L15 K_xNa_Nb_yTa_O_3 セラミックスの焼結性および電気的特性に及ぼす A サイトイオンの効果
- 1H24 酸化テルル粒子/有機ハイブリッドの合成と評価
- 2F19 ポリマープレカーサーを用いた窒化ケイ素基セラミックスの合成
- 2F18 有機金属前駆体をバインダとして用いたセラミックスの焼結
- 1F14 前駆体由来の白金分散 TiO_2 薄膜のガスセンシング
- 1F13 前駆体由来 LiMn_2O_4 の合成と電気化学特性
- 2F18 インクジェット印刷用窒化チタンインクの調製とその特性
- 1E03 共沈法による ZnGa_2O_4 蛍光体の合成と評価
- 1F03 高次構造制御による一次元メソポーラスセラミック膜の作製
- 2L17 化学溶液法による Bi_Nd_xTi_3O_ 強誘電体薄膜の低温作製
- 4. 熱プラズマによる複合微粒子の合成 (熱プラズマの産業応用における現状)
- セリア正方晶安定化ジルコニアマトリックス中でのバリウムヘキサアルミネートのin situ生成
- Y-TZP/M型ヘキサフェライトコンポジットのin situプロセッシング
- In Situセラミックコンポジットに適したAl^置換LaM型ヘキサフェライトの合成
- 2F17 Ce-TZP マトリックス中における La-M 型ヘキサフェライトの in-situ 生成
- 超微粒子コーティング技術
- 1H03 水溶液前駆体からのニオブ酸リチウムカリウムの作製と評価
- 2J09 前駆体水溶液からのニオブ酸リチウムカリウム薄膜の作製と評価
- 1G25 Co 置換ヘキサアルミノガレート系触媒の合成と評価
- 2B11 ヘキサアルミノガレート系化合物の合成と評価
- 1B06 K(Ta, Nb)O_3 配向薄膜の特性評価