1B02 CVD 法による多孔体への ZrO_2 薄膜合成
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 日本セラミックス協会の論文
- 1991-05-22
著者
関連論文
- 3K02 パルス通電加圧焼結で作製した多孔質アルミナの均質性
- 3F07 SiC ウィスカーの焼結による多孔質セラミックスの作製
- 3D06 CVD SiC の高温酸化に及ぼす酸素ポテンシャルの影響
- 2H04 Ba を充填したフィルドスクッテルダイトの熱電性質
- 1509 共晶組織によるセラミックスの新機能の開発
- 4p-Q-10 CVD-Si_3N_4非晶質の欠陥構造
- 3a-Q-3 CVD-Si_3N_4のコンプトン散乱による化学結合
- 31a-PS-41 CVD法によるSr_2CuO_2(CO_3)_(BO_3)_x薄膜の合成
- 30p-PSA-39 C-1222の合成と結晶構造
- 27a-PS-16 (C_Cu_)Sr_2(Y_Sr_)Cu_2O_7に於けるC, Cu規則配列の高分解能電顕観察
- 26p-PSB-26 Y-Sr-Cu-O-Co_3の超伝導
- 26a-Q-2 Cl2l2の合成と結晶構造
- 27p-PS-63 HRPDによる(Sr, Ba)_2CuO_2(CO_3)の構造解析
- β-ジケトン金属錯体を原料に用いたCVD法によるZrO_2-Y_2O_3系酸化物薄膜の合成
- H_2-CO_2 を酸化ガスに用いた CVD 法による ZrO_2 膜の作製
- 1B02 CVD 法による多孔体への ZrO_2 薄膜合成
- 31p-BF-2 非晶質 Si_1_3N_4 の構造
- 2E09 (Sr, Ba)_2CuO_2(CO_3) 固溶相の結晶構造と物性
- 27p-PS-68 YBCO薄膜及び単結晶の磁化と磁化緩和の異方性
- 2-1C11 プラズマ焼結法による Si_3N_4 焼結体の合成
- 1p-TC-9 気相分解黒鉛-臭素残存化合物の電気抵抗
- 1p-TC-7 Siliconated Pyrolytic Graphiteの電機的性質
- 31p-PS-85 YBCO-CVD薄膜における反磁性磁化暖和
- 31p-TA-3 Y系CVD薄膜の電気抵抗と臨界電流密度
- 1D12 La-Sr-Co-O 系電極薄膜上の PZT 薄膜の強誘電特性
- 30p-APS-23 Y_1Ba_2(Cu_Zn_x)_3OyのT_C磁気抵抗
- シリコンボライドの熱電特性に及ぼす相組成および微細構造の影響
- 3a-Z-1 Y系CVD薄膜における磁気緩和
- 2256 10kW 級 SOFC システムの開発
- 448 10kW 級 SOFC システムの開発
- 3B04 Spray-ICP 法によって合成した各種超微粒子の形状
- 169 セラミック平膜による菌体の分離
- 30p-APS-25 YBCO薄膜のJ_cと磁化緩和
- 25a-PS-17 Y系酸化物超伝導体の磁化緩和IV
- 5a-PS-43 Y-Ba-Cu-O系CVD薄膜の臨界磁場
- CVD-YBCO膜における磁束ピンニング力のスケール則
- 高上部臨界磁場から見積もられる物理パラメータ
- D104 円筒状固体電解質型燃料電池のための流体シミュレーション
- 2503 流体シミュレーションの円筒状固体電解質型燃料電池モジュール設計への適用
- 31p-M-8 Si_3N_4の超高圧高分解能電子顕微鏡観察
- 31p-PS-30 Y系,Bi系CVD薄膜におけるflux creep(31p PS 低温(酸化物超伝導))