Room-Temperature Absorption Edge of InGaN/GaN Quantum Wells Characterized by Photoacoustic Measurement
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概要
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The absorption edges of five periods of InxGa1-xN (3 nm)/GaN (15 nm) ($x=0.07--0.23$) quantum wells (QWs) are characterized by photoacoustic (PA) measurement at room temperature. The absorption edge is determined by differentiating the PA signal curve to obtain the inflection point on the assumption that the signal curve consists of Urbach tail in the low-energy region and Elliott’s equation in the high-energy region. The constant absorption edge of GaN is observed at 3.4 eV and an absorption edge redshift with increasing In composition is observed for InGaN QWs. As a result, the Stokes shift increases with In composition and the highest shift of 435 meV is observed at $x=0.23$. From the energy calculation of optical transition in the InGaN/GaN QWs under an internal polarization field, the transition between the ground states confined in the well with a triangular potential causes a low-energy shift in the photoluminescence peak from the bulk band-gap energy, and the excited bound states whose wave functions are confined by the step-linear potential extending over the GaN barrier lead to the high-energy shift in the absorption edge.
- 2008-12-25
著者
-
Takeda Yosuke
Department Of Hypertension And Cardiorenal Medicine Dokkyo Medical University
-
Shen Qing
Department Of Applied Chemistry Faculty Of Engineering University Of Tokyo
-
Toyoda Taro
Department Of Applied Physics And Chemistry The University Of Electro-communications
-
SANO Tatsuji
Department of Applied Physics and Chemistry, The University of Electro-Communications
-
Takagi Daigo
Department Of Applied Physics And Chemistry The University Of Electro-communications
-
Kobayashi Naoki
Department Of Applied Physics And Chemistry The University Of Electro-communications
-
Yamamoto Jun
Taiyo Nippon Sanso EMC Corp., Tama, Tokyo 206-0001, Japan
-
Ban Yuzaburo
Taiyo Nippon Sanso EMC Ltd., Tama, Tokyo 206-0001, Japan
-
Matsumoto Kou
Taiyo Nippon Sanso EMC Ltd., Tama, Tokyo 206-0001, Japan
-
Tabata Shin
Department of Applied Physics and Chemistry, The University of Electro-Communications, Chofu, Tokyo 182-8585, Japan
-
Matsumoto Kou
Taiyo Nippon Sanso EMC Corp., Tama, Tokyo 206-0001, Japan
-
Sano Tatsuji
Department of Applied Physics and Chemistry, The University of Electro-Communications, Chofu, Tokyo 182-8585, Japan
-
Ban Yuzaburo
Taiyo Nippon Sanso EMC Corp., Tama, Tokyo 206-0001, Japan
-
Takeda Yosuke
Department of Applied Physics and Chemistry, The University of Electro-Communications, Chofu, Tokyo 182-8585, Japan
-
Takagi Daigo
Department of Applied Physics and Chemistry, The University of Electro-Communications, Chofu, Tokyo 182-8585, Japan
-
Kobayashi Naoki
Department of Applied Chemistry, Faculty of Engineering, Osaka University
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