H-ベータゼオライトを用いたCSTR中でのイソブタンの1-ブテンによるアルキル化（第2報）ゼオライト触媒の劣化メカニズムとCSTRの操作最適化
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概要
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これまでに我々は，CSTRを用いた1-ブテンによるイソブタンのアルキレーションにおいて，DGC法で調製したベータ型ゼオライトが他のゼオライトに比べて高い活性・安定性を示すことを見出した。そこでより高い活性安定性を発現させるため，DGC法で調製したベータ型ゼオライトを用いて，活性劣化の原因を探るとともに，最適な操作条件を探索した。その結果，活性劣化の原因となっているのはゼオライト表面に吸着した炭化水素ではなく，細孔内部に蓄積した炭化水素であり，これは多重アルキル化あるいはオレフィンの重合によって生成していることが分かった。よって，これら反応を抑制する条件を探索し最適化することで，高い活性と安定性を両立することができた。
著者
-
関根 泰
早稲田大学
-
松方 正彦
早稲田大学
-
菊地 英一
早稲田大学
-
松方 正彦
早稲田大学先進理工学部応用化学科
-
市川 洋介
早稲田大学先進理工学部応用化学科
-
田嶋 祐一
早稲田大学先進理工学部応用化学科
-
関根 泰
早稲田大学先進理工学部応用化学科
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