アルコキシド化合物を原料としたCVDによるジルコニア薄膜の作製
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概要
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Zirconia film was prepared by thermal decomposition of zirconium tertiary butoxide. Gas chromatography was used to analyze the decomposed gas.<BR>Isobutene was detected at the decomposition of the alkoxide. The isobutene formation reaction began at a lower temperature than zirconia deposition temperature. The crystal structure of zirconia was amorphous below 573K, cubic between 573 and 673K, and monoclinic above 673K. The cubic phase formed at 623K was transformed to monoclinic phase by annealing at above 873K.
- 社団法人 化学工学会の論文
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