分析電子顕微鏡における試料汚染の改善
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
This paper describes the method to measure quantitatively the contamination caused by the use of a micro electron probe, and instrumental improvements for reducing it. These improvements include the adoption of a new type of vacuum grease and the development of a new type anti-contamination device. Since the weight of contamination deposits changes lineally with the probe irradiation time, a highly accurate method of contamination measurement has been established by indicating the contamination rate in g/min. Thus, it has become possible to correctly evaluate instrumental improvements for reducing contamination. The partial pressure of hydrocarbon gases in the specimen chamber was reduced by approx. one order, through various instrumental improvements. This resulted in a drastic reduction of the contamination rate and therefore in the performance improvement of the analytical electron microscope. In this experiment, any specimen pre-treatment that eliminates contamination source existing in a specimen itself, was not carried out. But it is now important to establish such a treatment in order to further reduce the contamination.
- 日本真空協会の論文
著者
-
富田 健
日本電子株式会社
-
原田 嘉晏
日本電子株式会社
-
渡辺 久雄
日本電子株式会社理科学機器プロジェクト技術部
-
江藤 輝一
日本電子株式会社理科学機器プロジェクト技術部
-
富田 健
日本電子株式会社理科学機器プロジェクト技術部
-
江藤 輝一
日本電子株式会社
-
渡辺 久雄
日本電子株式会社
-
原田 嘉晏
日本電子株式会社理科学機器プロジェクト技術部
関連論文
- 22pXB-8 球面収差補正 TEM によるシリコン界面の原子直視観察
- 収差補正200kV TEM・STEM
- ナノティップ電界放射電子銃の開発
- 高輝度電子銃の開発 (分析電顕のハード最前線)
- 収差補正200kV TEM・STEM (特集:収差補正技術を用いた応用研究最前線)
- ナノスケールでの結晶構造・電子状態解析へ向けて
- 6a-B4-6 UHV-高分解能SEMの作成
- 4a-M-9 電界放出型電子銃を用いた収束電子回折
- 分析電子顕微鏡における試料汚染の改善
- 9a-Z-2 収束電子線回折装置作製とその応用
- 透過電子顕微鏡(TEM)
- 超高真空走査電子顕微鏡
- 分析電子顕微鏡における試料汚染の改善
- 分析電子顕微鏡における試料汚染の改善
- 碍子からの放出ガスに起因する沿面放電
- 超伝導クライオ電子顕微鏡
- 分析電子顕微鏡における微小電子プローブによる試料汚染 (その2)
- 分析電子顕微鏡における微小電子ブロープによる試料汚染
- 分析電子顕微鏡の真空系
- 電子顕微鏡
- 高真空における高電圧電子銃での微小放電
- 高電圧電極に対するアルゴングロ-コンディショニング効果(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)