プレ-ナマグネトロンスパッタ法およびCVD法によるZnO薄膜の作製と光導波路への応用
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概要
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ZnO films with an excellent c-axis orientation, transparancy, and surface flatness have been prepared by high deposition-rate rf planar magnetron sputtering. The optical waveguide loss for the TE<SUB>0</SUB> mode of He-Ne 6328 Å line is as low as 2.0 dB/cm in a 4.2 μm thick film without postsputtering treatment. Single-crystalline ZnO films have been grown epitaxial onto sapphire substrates in a ZnO-H<SUB>2</SUB>-H<SUB>2</SUB>O-O<SUB>2</SUB> system. In this growth, water vapor and intermediately-sputter-deposited very-thin ZnO epitaxial layer are very important to grow ZnO films with an optically flat surface. The optical waveguide loss for the TE<SUB>0</SUB> mode (6328 Å) is as low as 0.7 dB/cm in a 2.57 μm thick film without postgrowth treatment.
- 日本真空協会の論文
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