非晶質TbCoスパッタ膜の磁気特性と膜構造
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概要
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Dependence of magnetic properties on sputtering conditions is studied in amorphous TbCo films. Perpendicular magnetic anisotropy constant <I>K</I><SUB>u</SUB> depends strongly on Ar pressure and negative substrate bias voltage <I>V</I><SUB>B</SUB>. When deposited at 10 mTorr Ar pressure without <I>V</I><SUB>B</SUB> or with applying <I>V</I><SUB>B</SUB> of-100 V, the film has positive <I>K</I><SUB>u</SUB> of 10<SUP>6</SUP> erg/cm<SUP>3</SUP> and the hysteresis loop measured perpendicular to the film plane is quite rectangular. Changes in film composition, film structure, and internal stress are investigated also for Ar pressure and substrate bias. The large perpendicular magnetic anisotropy is associated with an ordered fiber structure which comes from moderate bombardment of energetic species.
- 日本真空協会の論文
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