超高真空電子ビーム蒸着装置
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概要
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New UHV evaporator with electron gun has been designed for a broad range of substrate temperature and deposition rate. While the pressure is ultimately 5×10<SUP>-10</SUP> torr by using a nude B-A gage, it falls down to 5×10<SUP>-8</SUP> torr during evaporation of Nb. The electron beam gun has a tele-focus type and a full power of 50 kV 20 mA, and is valid in evaporation of refractory materials.<BR>Ferromagnetic Ni thin films are prepared in this UHV evaporator and examined by means of FMR. They have a smaller residual planar stress than those in a usual HV evaporator. Superconducting Nb thin films are also prepared and found to be abnormal in the transition temperature and critical field.
- 日本真空協会の論文
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