X線吸収端近傍微細構造分光法及び赤外反射吸収分光法によるポリブチレンテレフタレートの紫外線表面改質に関する研究
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概要
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紫外線照射したポリブチレンテレフタレート（PBT）表面の変化を調べるために，炭素K吸収端及び酸素K吸収端でのX線吸収端近傍微細構造（NEXAFS）分光法及び赤外反射吸収分光（IRRAS）法が用いられた．紫外線照射前後のNEXAFSスペクトル形状に違いが見られた．紫外線照射後に得られたNEXAFSスペクトルの形状は，官能基を含む特徴的な化学結合（カルボニル基，カルボキシル基，エステル結合，酸無水物）からのスペクトルと比較された．これらの比較検討から，紫外線照射によりPBT鎖内のエステル結合の切断と酸無水物の生成が示唆された．一方，IRRAS法によるスペクトル測定の結果は，NEXAFSスペクトルで示された構造変化を支持した．以上の議論から，NEXAFS分光法はX線光電子（XPS）分光法に比べ化学結合状態の変化に大変敏感であり，表面劣化状態の解析に有効であることが示された．
著者
-
岡島 敏浩
九州シンクロトロン光研究センター
-
原 一広
九州大学大学院工学研究院エネルギー量子科学部門
-
山本 雅人
名古屋大学大学院理学研究科物質理学専攻
-
関 一彦
名古屋大学大学院理学研究科物質理学専攻
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