多モードアンテナ型誘導結合プラズマによるC_4F_8半導体ガスの除害化
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概要
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Perfluorinated compound (PFC) gases, which have large global warming potentials, are widely used in plasma processing for etching and chamber cleaning. In this work, C4 F8 gas abatements in the effuluent from semiconductor manufacturing tools are examined by employing an inductively coupled plasma with multi-mode antenna. In particular, an advantage of plasma electron energy reduction is exclusively studied in PFC abatement of the effuluent.
- 社団法人 電気学会の論文
- 2003-04-01
著者
-
稲葉 次紀
中央大学理工学部電気電子情報通信工学科
-
進藤 春雄
東海大
-
稲葉 次紀
中央大学
-
進藤 春雄
東海大学工学部応用物理学科
-
進藤 春雄
東海大学大学院工学研究科
-
久保 祐也
中央大学
-
久保 祐也
中央大学理工学研究科電気電子情報通信工学専攻
-
工藤 大祐
東海大学
-
RAJU Ramasamy
東海大学
-
進藤 春雄
東海大学
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