自作CVD装置による炭素繊維表面へのアルミニウムの蒸着
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概要
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In order to fabricate well wetting and little high temperature brittleness aluminium-carbon fiber complex, we have made the CVD apparatus which does the work of covering PAN base carbon fiber with tri-ethyl-aluminium. Thickness of the deposited film increase with increace of both temperature and time, and is 1.5μm at 673K for four hours. By means of our manufactured CVD apparatus, observed deposition rate 0.35μm/hr at 673K.
- 津山工業高等専門学校の論文
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