レーザー誘起蛍光法を用いたNeプラズマ中のNe準安定原子の拡散係数の測定
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
基礎工学・応用物理学
- 笹氣出版印刷株式会社の論文
- 1992-03-20
著者
関連論文
- MgO電極を用いたCVDダイヤモンドの反応性イオンエッチング
- 液晶バックライト用電極としてのダイヤモンド膜の検討
- 高周波直流パルス励起におけるLCDバックライト用蛍光ランプの発光特性
- 119.細管冷陰極ランプにおける電子温度のAr濃度特性((9)光関連材料・デバイス)
- O_2/CF_4プラズマによるダイヤモンドエッチングとプラズマパラメータ
- 液晶バックライト用細管ランプ中の粒子密度
- CF_4プラズマにおけるCF_2ラジカルに及ぼす壁温度加熱の影響
- O_2/CF_4プラズマ中のCVDダイヤモンド薄膜の反応性イオンエッチンング
- P-2. 液晶バックライト用Ar-Hg放電中のHg粒子密度のAr圧力依存性
- 液晶バックライト用水銀ランプのプラズマ諸量
- Influence of Wall Heating on CF2 Radical in CF4 Hollow Cathode Discharge Plasma (学外発表論文) -- (第3プロジェクト〔複合インテリジェント集積素子の研究開発〕関係)
- 120. 液晶バックライト用Ar-Hg放電中のUV発光強度((8)光関連デバイス・ディスプレイ)
- ホローカソード直流CF_4プラズマ中のCF_3, CF_2ラジカル密度計測
- ホローカソードCF_4プラズマ中のCF_3CF_2ラジカル測定
- P8. 液晶バックライト用低圧Ar-Hg放電中におけるプラズマ諸量のAr圧力依存性
- 11. 液晶バックライト用水銀ランプ中のプラズマパラメータと粒子密度
- 液晶バックライト用低圧Ar−Hgプラズマ中の電子密度およびイオン密度
- 細管Ar-KrレーザープラズマにおけるAr（II）及びKr（II）線の発光強度
- 高電圧ホローカソード放電の動作電圧に及ぼす光電子放出の影響
- レーザー誘起蛍光法を用いたNeプラズマ中のNe準安定原子の拡散係数の測定
- CF4ホローカソード放電中のF，CF2の放射強度に及ぼすO2の影響
- 2a-Q-10 ホローカソードパルス放電の動作電圧に及ぼすUV光の影響
- 液晶バックライト用電極としてのMgOの二次電子放出特性(蛍光ランプ用電極と技術の現状)
- 液晶バックライト用低圧Ar-Hg放電中の粒子密度とプラズマパラメータ
- 細管冷陰極Ne放電中の放電開始電圧に及ぼす励起周波数の影響
- 細管冷陰極Ne放電中の放電開始電圧に及ぼす励起周波数の影響
- 低圧水銀ランプ用放電中のプラズマパラメ-タ
- 高電圧ホロ-カソ-ド放電の電流-電圧特性に及ぼす光による2次電子放出の影響
- 熱フィラメントCVD法で堆積した : ダイヤモンド薄膜の構造と二次電子放出係数
- プレーナ型 Metal-Semiconductor-Metal 構造における空乏層の光音響信号測定