放電プラズマ中ラジカル照射による低侵襲遺伝子導入法の開発(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・バイオテクノロジー・材料・評価技術及び一般)

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概要

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• 近年,プラズマのバイオ・医療応用研究が盛んに行われている.本研究では,放電プラズマを用いた低侵襲高効率遺伝子導入法の開発を目的として,第一に遺伝子となるDNAを低損傷でデリバリーするためにカーボンナノチューブ内部に挿入する技術を開発した.第二に,デリバリーされた遺伝子の細胞内への導入効率を向上させるために,遺伝子模擬蛍光物質と細胞を混合した溶液に水酸基ラジカルを含むプラズマを数秒照射した.その結果,導入効率30%,生存率90%以上の低侵襲遺伝子導入を実現した.

• 一般社団法人電子情報通信学会の論文
• 2013-04-18

著者

• 神崎 展

  東北大学大学院・医工学研究科

• 金子 俊郎

  東北大学大学院工学研究科

• 金子 俊郎

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 佐々木 渉太

  東北大院工

• 佐々木 渉太

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 小西 秀明

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

• 石田 裕康

  東北大学大学院工学研究科電子工学専攻

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