放電プラズマ中ラジカル照射による低侵襲遺伝子導入法の開発 (有機エレクトロニクス)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2013-04-25
著者
関連論文
- 放電プラズマ中ラジカル照射による低侵襲遺伝子導入法の開発 (有機エレクトロニクス)
- 放電プラズマ中ラジカル照射による低侵襲遺伝子導入法の開発 (シリコン材料・デバイス)
- 25pKC-4 非平衡プラズマ照射による細胞膜界面電位形成と遺伝子導入への効果(非平衡極限プラズマ,領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 放電プラズマ中ラジカル照射による低侵襲遺伝子導入法の開発(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・バイオテクノロジー・材料・評価技術及び一般)
- 放電プラズマ中ラジカル照射による低侵襲遺伝子導入法の開発(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・バイオテクノロジー・材料・評価技術及び一般)