Ge膜のエキシマレーザ誘起スーパーラテラル成長(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)

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概要

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• 90nm厚のGe膜のエキシマレーザ誘起スーパーラテラル成長(SLG)を実現した.Ge膜に光吸収下地膜を用いて基板方向からエキシマレーザを照射することでSLG距離は0.5μmから4.1μmに増大した.リアルタイム反射率測定によりSLG距離の増大はGe膜の固化期間が60nsから650nsに増大したためであることがわかった.SLG距離と固化期間は比例関係にあり,勾配から平均スーパーラテラル成長速度は固化期間の長さに関わらず6-7m/sで一定であることを求めた.またSLG結晶粒の結晶性も明らかにした.

• 2012-04-20

著者

• 葉 文昌

  島根大学総合理工学部

• 葉 文昌

  島根大学 総合理工学部

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