20aPS-23 スピン注入における強磁性体/非磁性体界面の影響(20aPS 領域3ポスターセッション(薄膜・人工格子・表面・微小領域・スピントロニクス・遍歴・化合物磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))

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概要

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• 2010-03-01

著者

• 大谷 義近

  理研:東大物性研

• 福間 康裕

  理研ASI

• 福間 康裕

  理研

• 井土 宏

  東大物性研

• 王 楽

  理研

• 大谷 義近

  東大物性研:理研asi

• 大谷 義近

  理化学研究所

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