28aYG-2 Si(lll)-√3×√3-Ag表面上に形成された鉄シリサイドのXMCD測定(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
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概要
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- 2009-08-18
著者
-
横山 利彦
分子研
-
山本 勇
分子研
-
高木 康多
理研 SPring-8
-
中川 剛志
分子科学研究所
-
横山 利彦
分子科学研究所
-
高木 康多
理化学研究所播磨研究所
-
中川 剛志
分子研
-
高木 康多
分子研
-
伊佐美 恭平
総研大
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