OA5 シリカガラス中の不純物による新しい緩和過程の発生(基礎・物性)

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概要

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• 超音波エレクトロニクスの基礎と応用に関するシンポジウム運営委員会の論文
• 1997-11-12

著者

• 斎藤 和也

  豊田工業大学

• 生嶋 明

  豊田工業大学

• 垣内田 洋

  豊田工業大学

• 斎藤 和也

  豊田工大

• 生嶋 明

  豊田工大

• 垣内田 洋

  豊田工大

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