2-10 高周波イオンプレーティング法によるZnO圧電膜(一般講演)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 超音波エレクトロニクスの基礎と応用に関するシンポジウム運営委員会の論文
- 1980-12-15
著者
関連論文
- 機能性透明導電膜
- 薄膜技術の最先端(最先端薄膜技術)
- イオンプレーティング技術の開発
- プラズマによる薄膜新素材
- 低温プラズマ利用の先端技術
- ドライプロセスによるメタロセン薄膜の作製 (薄膜の形成と構造) -- (有機薄膜)
- プラズマ重合による有機薄膜 (身近になったCVD技術)
- 形状記憶合金薄膜(あすの工業材料)
- イオンプレ-ティングによる薄膜形成過程におよぼすイオン効果 (イオンプレ-ティング)
- ポリマ-フィルムに対する金属蒸着技術の進歩
- プラズマを利用した表面処理技術
- 2-10 高周波イオンプレーティング法によるZnO圧電膜(一般講演)
- ZnO薄膜を用いたSAW-テレビジョン用PIFフィルタ
- イオンプレ-ティング
- 高周波イオンプレ-ティング法 (最近のZnO膜作成技術(技術ノ-ト))
- 反応性RFイオンプレ-ティング法によるIn2O3膜
- タンタル蒸着膜(II) : 薄膜
- 蒸着膜における電場効果(I) : 薄膜
- 特殊蒸着膜 : 薄膜
- 半導体蒸着膜の光起電力効果(I) : 表面物理, 薄膜
- 3)SAW共振子を用いたRFコンバーター(テレビジョン電子装置研究会(第97回))
- SAW共振子を用いたRFコンバーター
- 蒸着技術 (III)
- 蒸着技術 (I)
- 蒸着技術 (II)
- 薄膜とエレクトロニックス : 薄膜物性の応用
- 薄膜物性測定
- イオンプレーティング(期待されるブレイクスルー)
- PbO真空蒸着膜
- 低温プラズマ利用の先端技術 (ドライプロセスによる機能材料の創製)