蒸着膜における電場効果(I) : 薄膜
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人日本物理学会の論文
- 1969-03-30
著者
関連論文
- 機能性透明導電膜
- 薄膜技術の最先端(最先端薄膜技術)
- イオンプレーティング技術の開発
- プラズマによる薄膜新素材
- 低温プラズマ利用の先端技術
- ドライプロセスによるメタロセン薄膜の作製 (薄膜の形成と構造) -- (有機薄膜)
- プラズマ重合による有機薄膜 (身近になったCVD技術)
- 形状記憶合金薄膜(あすの工業材料)
- イオンプレ-ティングによる薄膜形成過程におよぼすイオン効果 (イオンプレ-ティング)
- ポリマ-フィルムに対する金属蒸着技術の進歩
- プラズマを利用した表面処理技術
- 2-10 高周波イオンプレーティング法によるZnO圧電膜(一般講演)
- ZnO薄膜を用いたSAW-テレビジョン用PIFフィルタ
- イオンプレ-ティング
- 高周波イオンプレ-ティング法 (最近のZnO膜作成技術(技術ノ-ト))
- 反応性RFイオンプレ-ティング法によるIn2O3膜
- タンタル蒸着膜(II) : 薄膜
- 蒸着膜における電場効果(I) : 薄膜
- 特殊蒸着膜 : 薄膜
- 半導体蒸着膜の光起電力効果(I) : 表面物理, 薄膜
- 3)SAW共振子を用いたRFコンバーター(テレビジョン電子装置研究会(第97回))
- SAW共振子を用いたRFコンバーター
- 蒸着技術 (III)
- 蒸着技術 (I)
- 蒸着技術 (II)
- 薄膜とエレクトロニックス : 薄膜物性の応用
- 薄膜物性測定
- イオンプレーティング(期待されるブレイクスルー)
- PbO真空蒸着膜
- 低温プラズマ利用の先端技術 (ドライプロセスによる機能材料の創製)