23pYJ-16 ダブルパルス発光相関法によるダイヤモンド電子正孔系の形成過程の制御(励起子・ポラリトン・高密度励起現象,領域5,半導体,メゾスコピック系・局在)

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2008-02-29

著者

• 中 暢子

  京大理

• 五神 真

  東大工

• 吉岡 孝高

  東大工

• 中 暢子

  東大工

• 大間知 潤子

  東大工

• 吉岡 孝高

  東大工:crest(jst)

• 五神 真

  東大工:crest(jst):東大ナノ量子機構

• 大間知 潤子

  東大工:crest(jst)

• 大間知 潤子

  東大工:CREST (JST)

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