406 円盤型スパッタリングターゲットに関する研究 : 冷却水の水圧および熱応力の影響(GS2-2 加工(2),一般セッション:GS2 加工)

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概要

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• 一般社団法人日本機械学会の論文
• 2006-03-01

著者

• 樫村 幸辰

  東京電機大学理工学部

• 樫村 幸辰

  東京電機大学

• 樫村 幸辰

  東京電機大・理工

• 樫村 幸辰

  東電大

• 石橋 一生

  東電大院

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